레이저 펌핑
Laser pumping레이저 펌핑은 외부 소스로부터 레이저의 이득 매체로 에너지를 전달하는 행위입니다.에너지는 매질에서 흡수되어 원자의 들뜬 상태를 생성합니다.하나의 들뜸 상태의 입자 수가 지면 상태의 입자 수 또는 덜 들뜸 상태의 입자 수를 초과하면 모집단 반전이 달성됩니다.이 상태에서는 자극방출기구가 발생할 수 있고 매체가 레이저 또는 광증폭기 역할을 할 수 있다.펌프 출력은 레이저의 레이싱 임계값보다 커야 합니다.
펌프 에너지는 보통 빛이나 전류의 형태로 제공되지만 화학 반응이나 핵 반응과 같은 더 이국적인 소스가 사용되었습니다.
광펌핑
펌핑 캐비티
아크 램프 또는 플래시 램프로 펌핑된 레이저는 보통 금속 불순물을 포함한 크리스털 로드 또는 액체 염료를 포함한 유리 튜브의 형태로 "사이드 펌핑"이라고 알려진 상태로 레이저 매체의 횡벽을 통해 펌핑됩니다.램프의 에너지를 가장 효율적으로 사용하기 위해 램프와 레이싱 매체는 램프 에너지의 대부분을 로드 또는 염료 셀로 리디렉션하는 반사 공동에 포함되어 있습니다.
가장 일반적인 구성에서 게인 매체는 미러된 캐비티의 한 초점에 위치한 로드 형태로 로드 축에 수직인 타원 단면으로 구성된다.플래시 램프는 타원의 다른 초점에 위치한 튜브입니다.미러의 코팅은 열렌즈를 최소화하기 위해 같거나 긴 파장을 흡수 또는 전송하면서 레이싱 출력보다 짧은 파장을 반사하도록 선택하는 경우가 많습니다.다른 경우에는 더 긴 파장의 흡수기를 사용한다.종종 램프는 플로우 튜브라고 불리는 원통형 재킷으로 둘러싸여 있다.이 유량관은 보통 자외선 등 부적절한 파장을 흡수하거나 적외선을 흡수하는 냉각수의 경로를 제공하는 유리로 만들어진다.종종 재킷에는 부적절한 파장의 빛을 램프에 반사시키는 유전체 코팅이 되어 있습니다.이 빛은 흡수되고 일부는 적절한 파장에서 다시 방출됩니다.또한 유량 튜브는 격렬한 램프 고장 시 로드를 보호하는 역할도 합니다.
타원이 작을수록 반사('밀착 결합'이라고 함)가 적어져 로드 [1]중앙의 강도가 높아집니다.단일 플래시 램프의 경우 램프와 막대가 같은 직경일 경우 일반적으로 막대에 빛을 촬영하는 데 가장 효율적입니다.로드와 램프는 단면에서의 손실 효과를 최소화하고 충분한 길이의 이득 매체를 제공하기 위해 상대적으로 길다.또한 긴 플래시 램프는 높은 [2]임피던스로 인해 전기에너지를 빛으로 전달하는 데 더 효율적입니다.그러나 로드가 직경에 비해 너무 길면 "프리렐링"이라는 상태가 발생하여 [3]로드가 적절히 생성되기 전에 로드의 에너지가 고갈될 수 있습니다.로드 엔드는 이러한 [4]효과를 최소화하기 위해 종종 Brewster 각도로 반사 방지 코팅되거나 절단됩니다.또한 손실을 [5]줄이기 위해 펌프 캐비티의 끝부분에 플랫 미러를 사용하는 경우가 많습니다.
이 설계의 변형은 겹치는 타원 형상으로 구성된 보다 복잡한 미러를 사용하여 여러 개의 플래시 램프가 하나의 로드를 펌핑할 수 있도록 합니다.이렇게 하면 전력은 증가하지만 모든 빛이 로드에 올바르게 촬영되지 않아 열 손실이 증가하므로 효율성이 떨어집니다.이러한 손실은 밀폐된 공동을 사용하여 최소화할 수 있습니다.그러나 [5]이 접근방식은 보다 대칭적인 펌핑을 가능하게 하여 빔 품질을 향상시킬 수 있습니다.
또 다른 구성은 스펙트럼론 또는 황산바륨 분말 등의 확산반사물질로 이루어진 공동에 막대 및 플래시 램프를 사용한다.이러한 공동은 빛의 초점을 맞추는 것이 주요 목적이 아니기 때문에 원형 또는 장방형인 경우가 많습니다.이는 빛이 로드에 도달하기 전에 많은 반사를 일으키기 때문에 라이팅 매체에 빛을 잘 결합시키지 않지만 종종 금속화된 [6]반사체보다 유지보수가 덜 필요하기 때문입니다.반사율이 증가하면 확산 매체의 높은 반사율에 의해 보상됩니다. 즉,[7] 금 거울의 경우 97%에 비해 99%).이 접근 방식은 광택이 나지 않은 로드 또는 여러 개의 램프와 더 잘 호환됩니다.
기생 모드는 봉의 길이 이외의 방향으로 반사가 발생할 때 발생하며, 그렇지 않으면 빔에서 사용할 수 있는 에너지를 소모할 수 있습니다.이는 로드 배럴이 연마된 경우 특히 문제가 될 수 있습니다.원통형 레이저 로드는 로드와 냉각수 사이의 전체 내부 반사로 인해 소거 갤러리 모드를 지원하며, 로드 원주 주변에서 지속적으로 반사됩니다.라이트 파이프 모드는 지그재그 경로에서 로드의 길이를 반사할 수 있습니다.로드에 반사 방지 코팅이 되어 있거나 로드의 굴절률에 맞는 유체에 담그면 이러한 기생 반사를 크게 줄일 수 있습니다.마찬가지로 로드의 배럴이 거친 지면(동토)이거나 홈이 있는 경우 내부 반사가 [8]분산될 수 있습니다.
단일 램프를 사용한 펌핑은 대부분의 에너지를 한쪽에 집중시켜 빔 프로파일을 악화시키는 경향이 있습니다.일반적으로 로드에 프로스트 배럴이 있어 빛을 분산시켜 로드를 통해 보다 균일한 빛의 분배를 제공합니다.이를 통해 게인 매체 전반에 걸쳐 더 많은 에너지를 흡수하여 더 나은 가로 모드를 구현할 수 있습니다.프로스트 플로우 튜브 또는 확산 리플렉터는 전달 효율을 낮추면서도 이 효과를 증가시켜 이득을 [9]향상시킵니다.
레이저 호스트 재료는 흡수율이 낮은 것으로 선택되며 도판트만 흡수됩니다.따라서 도핑에 의해 흡수되지 않는 주파수의 빛은 램프로 돌아가 플라즈마를 다시 가열하여 램프의 수명을 단축합니다.
플래시 램프 펌핑
플래시 램프는 레이저의 초기 에너지원이었다.고체 레이저와 염료 레이저 모두에서 높은 펄스 에너지에 사용됩니다.이들은 광스펙트럼의 빛을 만들어내 대부분의 에너지가 이득 매질에서 열로 낭비되도록 합니다.플래시 램프도 [10]수명이 짧은 경향이 있습니다.첫 번째 레이저는 루비 막대를 둘러싼 나선형 플래시 램프로 구성되었습니다.
석영 플래시 램프는 레이저에 사용되는 가장 일반적인 유형으로, 낮은 에너지 또는 높은 반복률로 최대 900°C의 고온에서 작동할 수 있습니다.평균 전력 또는 반복률이 높을 경우 수냉이 필요합니다.물은 일반적으로 램프의 아크 길이뿐만 아니라 유리의 전극 부분에도 씻겨야 합니다.수냉식 플래시 램프는 일반적으로 텅스텐을 직접 냉각할 수 있도록 전극 주위의 유리가 축소된 상태로 제조됩니다.전극이 유리 열팽창보다 훨씬 더 가열될 경우 [11]씰에 금이 갈 수 있습니다.
램프 수명은 주로 특정 램프에 사용되는 에너지 상태에 따라 달라집니다.낮은 에너지는 스패터를 발생시켜 음극에서 물질을 제거하고 유리에 재투입하여 어둡고 거울에 비친 외관을 만들 수 있습니다.낮은 에너지에서의 기대수명은 예측할 수 없습니다.높은 에너지는 유리를 흐리게 할 뿐만 아니라 유리를 구조적으로 약화시키고 산소를 방출하여 압력에 영향을 미치지만, 이러한 에너지 수준에서는 상당한 [11]정확도로 기대 수명을 계산할 수 있습니다.
펄스 지속 시간은 수명에도 영향을 미칠 수 있습니다.펄스가 매우 길면 음극에서 많은 양의 물질이 제거되어 벽에 부착될 수 있습니다.펄스 지속 시간이 매우 짧을 경우 아크가 유리에서 멀리 떨어진 램프 중앙에 오도록 주의하여 심각한 벽면 [11]절제를 방지해야 합니다.일반적으로 짧은 [11]펄스에는 외부 트리거링이 권장되지 않습니다.보통 Boom 전압 트리거링은 염료 레이저에서 사용되는 것처럼 매우 빠른 방전에 사용되며, 종종 이것을 "프리 펄스 기술"과 결합합니다. "프리 펄스 기술"은 메인 플래시 바로 전에 작은 플래시가 시작되어 더 빠른 [12]상승 시간을 위해 가스를 예열합니다.
염료 레이저는 때때로 "축 펌핑"을 사용합니다. 이것은 속이 빈 고리 모양의 플래시 램프로 구성되며, 외부 외피가 반사되어 적절한 빛을 중앙으로 반사합니다.염료 셀은 중앙에 배치되어 펌핑 빛의 분배가 보다 균일해지고 에너지가 보다 효율적으로 전달됩니다.또한 중공 플래시 램프는 일반 플래시 램프보다 인덕턴스가 낮아 짧은 플래시 방전을 제공합니다.드물게 염료 레이저에는 "동축" 설계가 사용됩니다. 이 설계는 고리 모양의 염료 셀로 둘러싸인 일반 플래시 램프로 구성됩니다.이를 통해 전달 효율이 향상되어 리플렉터가 필요하지 않지만 회절 손실은 이득이 [13]낮아집니다.
플래시 램프의 출력 스펙트럼은 주로 전류 [11]밀도의 산물입니다.펄스 지속시간의 '폭발 에너지'(1~10회 섬광으로 파괴하는 에너지량)를 결정하고 안전한 에너지 레벨을 선택한 후 전압과 캐패시턴스의 밸런스를 조정하여 출력을 근적외선에서 원자외선으로 집중시킬 수 있습니다.저전류 밀도는 매우 높은 전압과 낮은 [11][14]전류를 사용하므로 발생합니다.이를 통해 출력은 근적외선(IR)에 집중되어 스펙트럼 라인이 넓어지며 Nd:YAG 및 얼비움:YAG. 전류 밀도가 높을수록 스펙트럼 라인이 넓어져 함께 섞이기 시작하고 연속체 방출이 발생합니다.긴 파장은 짧은 파장보다 낮은 전류 밀도로 포화 수준에 도달하기 때문에 전류가 증가하면 출력 중심이 시각 스펙트럼 쪽으로 이동하므로 [2]루비 등의 가시광선 레이저를 펌핑하는 데 더 좋습니다.이 시점에서, 그 가스는 거의 이상적인 "회색체 [14]라디에이터"가 된다.더 높은 전류 밀도는 자외선의 출력을 중심으로 흑체 복사를 발생시킵니다.
크립톤은 네오디뮴 도프 레이저 로드를 펌핑하는 데 종종 사용되지만,[11] 크립톤은 그 효율 때문에 광범위하게 사용됩니다.이는 IR에 가까운 스펙트럼 라인이 네오디뮴 흡수 라인과 더 잘 맞아 크립톤이 전체 출력은 [11][15][16]낮지만 전달 효율이 더 좋기 때문이다.이것은 Nd:에서 특히 효과적입니다.흡수 프로파일이 좁은 YAG.크립톤을 주입한 이 [17]레이저들은 제논에서 얻을 수 있는 출력의 두 배까지 얻을 수 있습니다.스펙트럼 라인 방출은 보통 펌핑 시 선택된다. Nd:크립톤을 사용하는 YAG이지만 제논의 모든 스펙트럼 라인은 Nd:의 흡수 대역을 놓치기 때문에YAG, 제논을 사용하여 펌핑할 때 연속체 방출이 사용됩니다.[18]
아아크 램프 펌핑
아크 램프는 연속 운전을 지원할 수 있는 펌핑 로드에 사용되며, 어떠한 크기와 전력으로도 만들 수 있습니다.일반적인 아크 램프는 램프가 작동하도록 설계된 특정 전류 레벨을 유지할 수 있을 만큼 높은 전압에서 작동합니다.이것은 보통 10~50A 범위입니다.아크 램프는 매우 높은 압력으로 인해 아크를 시동하거나 "스트라이킹"하기 위해 특별히 설계된 회로가 필요합니다.타격은 보통 3단계로 이루어집니다.트리거 단계에서는 "직렬 트리거링" 변압기에서 나오는 매우 높은 전압 펄스가 전극 사이에 스파크 스트리머를 생성하지만 임피던스가 너무 높아 주 전압이 이어받을 수 없습니다.이어서 기체가 플라즈마 상태로 가열될 때까지 전극 사이의 전압 강하보다 높은 전압이 램프를 통해 구동되는 '부스트 전압' 위상이 개시된다.임피던스가 충분히 낮아지면 "전류 제어" 단계가 이어지며, 여기서 주 전압이 전류를 안정적인 [11]레벨로 구동하기 시작합니다.
아크 램프 펌핑은 플래시 램프 펌핑 레이저와 유사한 캐비티에서 이루어지며, 리플렉터 캐비티에는 로드와 하나 이상의 램프가 있습니다.캐비티의 정확한 모양은 사용되는 램프의 수에 따라 달라집니다.주요 차이점은 냉각에 있습니다.아크 램프는 물로 냉각해야 하며, 물이 유리 너머로, 전극 커넥터에서도 세척되도록 해야 합니다.이를 위해서는 회로 단락 및 전기 분해를 통한 전극 부식 방지를 위해 저항률이 200kohm 이상인 탈이온수를 사용해야 합니다.물은 보통 분당 [11]4~10리터의 속도로 유량관을 통해 흐릅니다.
아크 램프는 제논, 크립톤, 아르곤, 네온, 헬륨을 포함한 거의 모든 종류의 귀한 가스를 가지고 있으며, 모두 가스에 매우 특정한 스펙트럼 라인을 방출합니다.아크 램프의 출력 스펙트럼은 대부분 가스 유형에 따라 달라지며, 좁은 대역 스펙트럼 라인은 낮은 전류 밀도로 작동하는 플래시 램프와 매우 유사합니다.출력은 근적외선이 가장 높으며 보통 Nd:와 같은 적외선 레이저를 펌프하기 위해 사용됩니다.YAG.
외부 레이저 펌핑
적절한 타입의 레이저를 사용하여 다른 레이저를 펌핑할 수 있다.펌프 레이저의 좁은 스펙트럼은 레이저 매체의 흡수선과 밀접하게 일치하여 플래시 램프의 광대역 방출보다 훨씬 효율적인 에너지 전달을 제공합니다.다이오드 레이저는 고체 레이저와 액체 염료 레이저를 펌프합니다.링 레이저 설계는 특히 염료 레이저에서 자주 사용됩니다.링 레이저는 3개 이상의 거울을 사용하여 원형 경로로 빛을 반사합니다.이를 통해 대부분의 Fabry-Péro 공명기에서 발생하는 정재파를 제거하여 이득 매체의 [21]에너지를 보다 효율적으로 사용할 수 있습니다.
기타 광펌핑 방법
전자레인지 또는 무선주파 전자파 방사선을 사용하여 가스 레이저를 자극할 수 있습니다.
태양 펌프를 이용한 레이저가 태양 복사를 [22][23]펌프원으로 사용한다.
전기 펌핑
전기 글로우 방전은 가스 레이저에서 흔히 볼 수 있습니다.예를 들어 헬륨 네온 레이저에서는 방전된 전자가 헬륨 원자와 충돌하여 헬륨 원자를 자극합니다.들뜬 헬륨 원자는 네온 원자와 충돌하여 에너지를 전달합니다.이것은 네온 원자의 역집단을 형성할 수 있게 해준다.
전류는 일반적으로 레이저 다이오드 및 반도체 결정 레이저(예[24]: 게르마늄)를 펌프하는 데 사용됩니다.
전자 빔은 자유 전자 레이저와 엑시머 레이저를 펌프한다.
가스 동적 펌핑
가스 동적 레이저는 이산화탄소와 같은 가스의 초음속 흐름을 사용하여 분자를 역치를 초과하여 자극합니다.가스는 가압된 후 최대 1400 켈빈까지 가열됩니다.그런 다음 가스는 특수 형태의 노즐을 통해 매우 낮은 압력으로 빠르게 팽창합니다.이 팽창은 초음속, 때로는 마하 4만큼 높은 속도로 일어납니다.뜨거운 가스는 많은 분자들이 들뜬 상태 위에 있는 반면, 더 많은 분자들이 낮은 상태에 있어요.급격한 팽창으로 단열 냉각이 발생하여 온도가 300 K까지 낮아집니다.이러한 온도 감소는 상부와 하부의 분자들이 낮은 온도에 더 적합한 값으로 평형을 이완하게 합니다.하지만, 낮은 상태의 분자는 매우 빨리 이완되는 반면, 높은 상태의 분자는 이완되는 데 훨씬 더 오래 걸립니다.많은 양의 분자가 상위 상태에 있기 때문에, 모집단 반전이 생성되고, 이것은 종종 하류에서 꽤 멀리까지 확장됩니다.동적 이산화탄소 [25]레이저로 100kW의 연속파 출력을 얻을 수 있습니다.
유사한 초음속 팽창 방법이 일산화탄소 레이저를 단열 냉각하기 위해 사용되며, 일산화탄소 레이저들은 화학 반응, 전기 또는 무선 주파수 펌핑을 통해 펌핑됩니다.단열 냉각은 부피가 크고 비용이 많이 드는 극저온 냉각을 액체 질소로 대체하여 일산화탄소 레이저의 효율을 높입니다.이 타입의 레이저는,[26] 최대 60%의 효율로 기가 와트급의 출력을 낼 수 있었습니다.
기타 타입
전하 변위 자가 채널링은 전자의 무거운 배출에 의해 생성되고 유지되는 기둥을 따라 높은 에너지 농도를 발생시킬 수 있습니다.채널은 또한 짧은 파장 2차 방사선과 궁극적으로는 극히 짧은 파장 레이싱을 [27][28][29][30][31][32][33][34][35][36][37][38][39][40][41]컬럼화합니다.
화학반응은 화학레이저에서 동력원으로 사용된다.이것에 의해, 다른 방법으로는 도달하기 어려운 매우 높은 출력 파워가 가능하게 됩니다.
핵분열은 외래 [42][43]핵펌프 레이저(NPL)에 사용되며 원자로에서 방출되는 빠른 중성자의 에너지를 직접 사용한다.
미군은 1980년대에 핵무기로 발사된 X선 레이저를 실험했지만, 실험 결과는 확실하지 않았고 [44][45]반복되지 않았다.
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