800 nm 프로세스

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반도체 장치 조작
MOSFET 스케일링 (프로세스 노드)
010 µm – 1971 006 µm – 1974 003 µm – 1977 1.5 µm – 1981 001 µm – 1984 800 nm – 1987 600 nm – 1990 350 nm – 1993 250 nm – 1996 180 nm – 1999 130 nm – 2001 090 nm – 2003 065 nm – 2005 045 nm – 2007 032 nm – 2009 022 nm – 2012 014 nm – 2014 010 nm – 2016 007 nm – 2018 005 nm – 2020
미래. 003 nm ~2023년 002 nm ~2024년
반노드 밀도 CMOS 디바이스(멀티게이트) 무어의 법칙 트랜지스터 카운트 반도체 산업 나노일렉트로닉스
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800나노미터(800nm) 공정은 1989~1990년에 Intel 및 IBM과 같은 대부분의 주요 반도체 회사가 도달한 반도체 공정 기술 수준을 말합니다.

제조 공정 0.8µm 제품

• 1989년에 출시된 인텔 80486 CPU는 이 공정을 사용하여 제조되었습니다.
• microSPARC 1992년 출시
• 최초의 인텔 P5 Pentium CPU(60MHz 및 66MHz)는 1993년에 출시되었습니다.

레퍼런스

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