진공 증착

Vacuum deposition
Mont [1]Megantic Observatory의 Aluminizing 진공 챔버로 망원경 거울의 재코팅에 사용됩니다.

진공 증착은 고체 표면에 원자별로 또는 분자별로 물질의 층을 쌓는 데 사용되는 일련의 과정입니다.이러한 프로세스는 대기압보다 훨씬 낮은 압력(예: 진공)에서 작동합니다.퇴적된 층은 원자 1개의 두께에서 밀리미터까지 다양하며, 자유로운 구조를 형성합니다.예를 들어 광학 코팅을 형성하기 위해 서로 다른 재료의 여러 층을 사용할 수 있습니다.프로세스는 증기원을 기준으로 검증할 수 있습니다. 물리적 증기 증착은 액체 또는 고체 소스를 사용하고 화학적 증기 증착은 화학 [2]증기를 사용합니다.

묘사

진공 환경은 다음 중 하나 이상의 용도로 사용될 수 있습니다.

  • 충돌의 평균 자유 경로가 길도록 입자 밀도를 감소시키는 것
  • 바람직하지 않은 원자와 분자(성분자)의 입자 밀도를 감소시키는
  • 저압 플라즈마 환경 제공
  • 가스와 증기 조성을 제어하는 수단을 제공하는 것
  • 처리실로 유입되는 질량 흐름 제어를 위한 수단을 제공합니다.

응축 입자는 다양한 방법으로 생성될 수 있습니다.

반응성 퇴적에서 퇴적 물질은 기체 환경의 성분(Ti + N → TiN) 또는 공융착 종(Ti + C → TiC)과 반응한다.플라즈마 환경은 기체종(N2→2N)의 활성화와 화학적 증기 전구체(SiH4→Si+4H)의 분해를 돕는다.또한 플라즈마는 스패터에 의한 기화 또는 스패터 클리닝을 위한 기판 충격 및 구조를 고밀화하고 특성을 맞춤화하기 위한 퇴적물 충격(이온 도금)을 위해 이온을 제공할 수 있습니다.

종류들

증기원이 액체 또는 고체인 경우 이 과정을 물리적 증기 증착(PVD)이라고 합니다.소스가 화학 증기 전구체일 경우 이 과정을 화학 증기 증착(CVD)이라고 합니다.후자는 저압 화학 기상 증착(LPCVD), 플라즈마 강화 화학 기상 증착(PECVD) 및 플라즈마 지원 CVD(PACVD)의 여러 변형이 있습니다.PVD 및 CVD 프로세스의 조합이 동일하거나 연결된 처리 챔버에서 사용되는 경우가 많습니다.

적용들

일반적으로 1마이크로미터 미만의 두께를 박막이라고 하며, 1마이크로미터 이상의 두께를 코팅이라고 합니다.

「 」를 참조해 주세요.

레퍼런스

  1. ^ "Daily events and images of the installation of the BBSO New Solar Telescope". Big Bear Solar Observatory. Retrieved 6 January 2020.
  2. ^ Quintino, Luisa (2014). "Overview of coating technologies". Surface Modification by Solid State Processing. pp. 1–24. doi:10.1533/9780857094698.1. ISBN 9780857094681.

참고 문헌

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