오픈 아트워크 시스템 교환 표준

Open Artwork System Interchange Standard

OASIS(Open Articture System Interchange Standard)[1]는 컴퓨터가 설계와 제조 과정에서 집적회로의 전자적 패턴을 표현하고 표현하기 위해 사용하는 언어다.언어는 직사각형, 사다리꼴, 다각형 등 기하학적 도형에 필요한 코드를 정의한다.각자가 가질 수 있는 성질의 유형, 이러한 형상에 의해 만들어진 패턴을 포함하는 세포로 어떻게 정리할 수 있는지, 그리고 각 성질을 서로 상대적으로 배치할 수 있는 방법을 규정한다.null

소개

OASIS는 통합 회로 설계 및 제조 전자 패턴 레이아웃 언어인 GDSII의 상업적 계승자로 알려져 있다.

GDSII는 1970년대에 통합회로 설계가 관리할 수 있는 수십만 개의 기하학적 모양과 특성, 배치도를 갖췄을 때 만들어졌다.오늘날, 관리해야 할 수십억 개의 모양, 속성, 배치 등이 있을 수 있다.OASIS 제작자와 사용자는 워크스테이션의 데이터 스토리지 및 처리 기능의 증가가 집적회로 배치의 복잡성 증가에 의해 훨씬 앞섰다고 주장했다.[2]따라서 OASIS는 데이터 크기를 줄이기 위해 복잡한 형태의 기하학적 형상(25종의 사다리꼴만 해당)을 도입함으로써 GDSII 파일의 크기가 큰 것으로 알려진 문제를 해결하려고 한다.또한 좌표에 대한 가변 길이 숫자 형식(런 길이 인코딩과 유사)이 구현되었다.마지막으로, OASIS 파일의 각 셀은 gzip 유사 알고리즘에 의해 독립적으로 압축될 수 있다.null

OASIS 포맷을 만들기 위한 노력은 2001년 6월에 시작되었다.버전 1.0의 발매는 2004년 3월에 이루어졌다.그것의 사용은 이미 GDSII 리더와 작가들이 장착된 설계와 제조 장비에 결합될 수 있는 새로운 OASIS 리더와 작가들의 개발을 필요로 했다.그것의 채택은 미국, 일본, 대만, 한국, 유럽의 집적회로 설계, 장비, 포토마스크, 팹리스, 제3자 지적재산권(IP)과 제조회사들이 힘을 합친 노력에서 비롯되었다.null

OASIS라고 불리는 제한된 버전의 OASIS.마스크는 패턴 발생기, 검사 시스템 등 반도체 포토마스크 제조장비의 고유 니즈를 해결한다.OASIS와 OASIS 둘 다.마스크는 업계 표준이다.null

예제 데이터 파일

이 뷰를 셀 뷰라고 한다.셀은 배치된 기하학적 모양의 집합체일 수 있다.그것은 또한 세포들의 집합이 될 수 있다; 각각은 다른 세포와/또는 기하학적 모양을 포함한다.각 세포에는 적어도 한 층이 있어야 한다.이 보기에서 각 색상은 세포 내의 다른 층을 나타낸다.집적회로에는 수만 개의 독특한 세포와 같은 세포의 반복적인 인스턴스들이 포함될 수 있다.

아래는 인간이 읽을 수 있는 OASIS 바이너리 파일의 텍스트 표현으로, 위의 "Patched_shapes_and_cells_inner_an_"이라고 하는 셀 뷰를 표현할 수 있다.IC_cell".상단 셀은 S_TOP_CELL이라는 파일 레벨의 표준 속성 레코드에 의해 정의된다.아래의 PROPERTION 레코드는 S_TOP_CELL이라는 프로펠러 이름 문자열이 있는 PROPNAME 레코드(refNum=0)를 참조한다.상단 셀에는 "하단 셀"이라고 불리는 세 개의 셀이 배치되어 있다.아래쪽 셀은 기하학적 모양만 포함한다.null

아래 OASIS 표시의 각 선에는 레코드 번호와 레코드 유형 뒤에 해당 레코드 유형을 정의하는 일련의 값이 포함된다.예를 들어, 아래의 첫 번째 사각형 레코드는 직사각형 모양, 크기 및 절대 위치를 정의한다.

  • 층
  • 데이터 유형
  • 폭
  • 높이
  • 왼쪽 아래 x 좌표
  • 왼쪽 하단 y-좌표

이 사각형 레코드에 없는 것은 사각형의 반복된 인스턴스(instance)의 위치를 설명하는 옵션이다.또한, 이 레코드 타입은 너비에 대한 값만 정의함으로써 정사각형에 대한 설명을 허용한다.이러한 설명을 사용하려면 사각형 레코드의 비트 패턴이라고 하는 것을 설정해야 한다.사각형 레코드의 경우 비트 패턴(1(활성화) 또는 0(비활성화)은 다음과 같다.

SWHXYRDL(제곱, 너비, 높이, X 좌표, Y 좌표, 반복, 데이터 유형, 레이어 번호)null

이 사각형 레코드의 경우 비트 패턴은 0WHXY0DL(사각형, 너비, 높이, X 좌표, Y 좌표, 반복하지 않음, 데이터 유형, 레이어 번호)로 설정된다.셀 "Cell_Placed_"에 있는 첫 번째 및 두 번째 사각형 레코드Shape_2" (CELL refNum=1)"는 직사각형의 반복 인스턴스를 정의한다.첫 번째 사각형 레코드(SW0XYRDL)는 유형 10 반복(rep=rep10)을 사용한다.두 번째 사각형 레코드(0WHXYR0L)는 유형 11 반복을 사용한다(rep=Rep11).반복 유형은 총 11종(Rep1-Rep11)이다.두 번째 사각형 레코드 비트 패턴에서는 첫 번째 사각형 레코드에 사용된 것과 동일한 데이터 형식이 두 번째 사각형 레코드에 적용되기 때문에 데이터 유형(D)이 '0'으로 설정되었다.PLYGON, TRAPEZOID, CTRAPEZOID, CONE 및 PATH 유형의 기록 유형을 갖는 기타 OASIS 지원 기하학적 모양은 다른 비트 패턴으로 정의된다.null

아래 CELLNAME 기록에 따르면, 아래쪽 셀에는 다음과 같은 셀 이름 문자 "Cell_Placed_"가 있다.도형_1, . _2와 . . . _3"기하학적 모양에 할당된 각 도면층 번호는 도면층 간격 및 도면층 이름 문자열을 정의하는 LEERNAME 레코드와의 연관성을 가지고 있다.이 보기에서 도면층 이름 문자열 "Layer_Color_Mapping"은 도면층 색상표 "layercolormap.data"에 사용된 도면층 간격을 정의한다.null

아래의 예는 OASIS 언어에 대한 철저한 설명이 아니었다.목표는 관심 있는 독자에게 OASIS 언어의 범위와 그것이 통합 회로를 정의하는 전자 배치 패턴의 표현과 표현에 어떻게 적용되는지에 대한 일반적인 이해를 제공하는 것이었다.null

- 매직 "%SEMI-OASIS\015\012 1 START 버전="1.0" 단위=real0(1000) 오프셋플래그=0 오프셋=[(0.0)(0.0) (0.0) (0.0) (0.0) (0.0)] 28 PROPERTIES 00010CNS refNum=0 count=(1) 문자열12("Placed_shapes_and_cells_inner_an_)IC_cell") 7 PROPNAME 이름="S_TOP_CELL" refNum=(0) 3 CELLNAME 이름="Cell_Placed_"Shape_1" refNum=(0) 3 CELLNAME 이름="Cell_Placed_"Shapes_2" refNum=(1) 3 CELLNAME 이름="Cell_Placed_"Shapes_3" refNum=(2) 3 CELLNAME name="배치_Shapes_and_cells_inner_an_IC_cell" refNum=(3) 11 LERERNAME 이름="Layer_Color_Mapping" layer=3(25:25) datatypes=1(0:0) 11 LAYERNAME name="Layer_Color_Mapping" layer=4(41:46) datatypes=1(0:0) 11 LEERNAME name="Layer_Color_Mapping" layer=3(49:49) datatypes=1(0:0) 11 LAYERNAME name="Layer_Color_Mapping" layers=3(63:63) datatypes=1(0:0) 13 CELL refNum=3 17 PLACEMENT CNXY0000 refNum=0 x=0 y=0 17 PLACEMENT CNXY0000 refNum=1 x=0 y=0 17 PLACEMENT CNXY0000 refNum=2 x=0 y=0 13 CELL refNum=0 20 RECTANGLE 0WHXY0DL layer=41 datatype=1 width=3960 height=1980 x=-440 y=-220 20 RECTANGLE 00H0Y00L layer=42 height=2420 y=1760 20 RECTANGLE 0WHXY00L layer=63 width=3080 height=3960 x=0 y=0 20 RECTANGLE 0WHXY00L layer=43 width=2255 height=55 x=110 y=605 20 RECTANGLE 0WH0Y000 width=2860 height=330 y=660 20 RECTANGLE 00H0Y000 height=110 y=2530 20 RECTANGLE 0WH0Y000 width=2750 height=220 y=2640 20 RECTANGLE 0WH0Y000 width=2255 height=550 y=2860 20 RECTANGLE 0WHXY000 width=330 height=440 x=2035 y=165 20 RECTANGLE 0WH0Y000 width=935 height=220 y=2310 20 RECTANGLE 0WH0Y000 width=330 height=385 y=3410 20 RECTANGLE S00XY000 x=2585 y=3465 20 RECTANGLE 0WHXY00L layer=44 width=3330 height=1665 x=-125 y=1760 20 RECTANGLE 0WH0Y000 width=2670 height=410 y=3425 20 RECTANGLE 0WH0Y000 width=3330 height=250 y=3835 20 RECTANGLE 0WHXY000 width=250 height=410 x=2955 y=3425 20 RECTANGLE 0WHXY00L layer=45 width=3330 height=1885 x=-125 y=-125 20 RECTANGLE SW0XY000 width=410 x=2545 y=3425 13 CELL refNum=1 20 RECTANGLE SW0XYRDL layer=25 datatype=0 width=160 x=195 y=690 rep=rep10[dim=15 disp=(g(0,1430) g(0,1045) g(550,-1375) g(220,-550) g(165,-495) g(0,1870) g(165,-495) g(825,-1870) g(0,3300) g(275,-1980) g(165,1540) g(110,440) g(55,-2805) g(0,1650))] 20 RECTANGLE 0WHXYR0L layer=46 width=340 height=220 x=105 y=2030 rep=rep11[dim=3 grid=10 disp=(g(55,-21) g(165,-22))] 20 RECTANGLE 0WH0YR00 width=505 height=120 y=2250 rep=rep10[dim=3 disp=(g(2365,-1100) g(0,880))] 20 RECTANGLE 0W0XY000 width=285 x=325 y=1370 20 RECTANGLE 0WH0Y000 width=120 height=540 y=1490 20 RECTANGLE 00HXY000 height=1045 x=490 y=325 20 RECTANGLE 00H0YR00 높이=1320 y=2370 rep=rep2[xdim=2 dx=935] 20 직사각형 0WHXY000 폭=890 높이=120 x=655 y=1700 20 직사각형 0WHXY000 폭=120 높이=825 x=875 y=325 20 직사각형 SW00YR00 폭=340 y=1150 rep=rep10[dim=3disp=3dv=(g(330,880) g(1265,990))] 2 끝

산업표준

오아시스와 오아시스.마스크는 이제 공식적인 산업 표준이다.두 회사 모두 무역 및 표준 기관인 SEMI가 소유하고 있으며, SEMI는 전 세계 반도체 소재 및 장비 산업에 서비스를 제공하고 있다.null

SEMI P39 OASIS 및 SEMI P44 OASIS에 대한 수수료 기반 사양.마스크는 SEMI의 웹 사이트에서 다운로드할 수 있다.null

외부 링크

각주

  1. ^ OASIS라는 상표는 캘리포니아 알라모 주 토마스 그레빈스키의 미국 내 등록 상표로 SEMI가 독점적으로 사용할 수 있도록 허가했다.
  2. ^ http://www.eetimes.com/document.asp?doc_id=1276148