광학 과립측정학
Optical granulometry| 그란울로메트리 | |
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| 기본개념 | |
| 입자 크기 · 곡물크기 크기 분포 · 형태학 | |
| 방법 및 기술 | |
| 메쉬 눈금 · 광학 과립측정학 체 분석 · 토양 그라데이션 | |
관련개념 | |
| 과립 · 세밀한 재료 광물질분진 · 패턴인식 동적광 산란 | |
광학 과립측정법은 사진을 바탕으로 여러 가지 곡물 크기를 세밀한 재료로 측정하는 과정이다.[1] 사진을 분석하고 그림이 무엇을 묘사하는지를 바탕으로 통계를 만드는 기술이 만들어졌다. 이 정보는 전세계 다양한 무역에서 기계를 유지하는데 필수적이다. 광산업체들은 광학 그래눌로메트리를 이용해 비활성 암석이나 움직이는 암석을 분석해 이 파편들의 크기를 정량화할 수 있다.[2] 임업 회사들은 생산 공정을 중단하지 않고 목재 칩 크기에 영점을 찍을 수 있으며 사이징 오류를 최소화할 수 있다.[3]
광분석 기술이 더 많이 생산되면서 채광업체들은 채광 공정 전반에 걸쳐 효율성을 유지하는 능력 때문에 이러한 유형의 시스템에 대한 관심이 높아지고 있다.[4] 기업들은 이 새로운 기술 때문에 매년 수백만 달러를 절약하고 있고, 장비에 대한 유지 비용을 줄이고 있다.[citation needed]
광학 그래눌로메트리가 완전히 성공하기 위해서는 충분한 조명과 적절한[clarification needed] 기술을 사용하여 정확한 사진을 찍어야 정량화된 결과를 얻을 수 있다.[5] 이러한 요건이 충족되면 이미지 분석 시스템을 구현할 수 있다.
프로세스
소프트웨어는 재료의 평균 크기를 결정하는 데 네 가지 기본 단계를 사용한다.
광학, 임업 및 농업 기업들이 이 기술을 사용하여 품질 관리 기술을 향상시키는 방법을 보려면 사진 분석 관련 위키피디아 기사를 참조하십시오.
참고 항목
메모들
- ^ GEMET의 웨이백 머신에 보관된 2016-03-04의 세분성 정의
- ^ (프랭클린과 카타바니스 1996), 68페이지
- ^ (프랭클린과 카타바니스 1996), 47페이지
- ^ (프랭클린과 카타바니스 1996), 258페이지
- ^ (프랭클린과 카츠바니스 1996), 115페이지
참조
- Measurement of Blast Fragmentation: Proceedings of a Workshop Held Parallel With Fragblast-5, Montreal, 26–29 August 1996, by John A. Franklin, Takis Katsabanis, Published by Taylor & Francis, 1996, ISBN 90-5410-845-2
