이온빔 보조 증착
Ion beam-assisted deposition이온빔 보조 증착 또는 IBAD 또는 IAD(이온빔 유도 증착과 혼동하지 말 것)는 이온 주입을 동시 스패터링 또는 다른 물리적 증기 증착 기술과 결합하는 재료 공학 기술이다.이 기술은 증착 중 이온에너지, 온도 및 원자종 도달률 등의 파라미터를 독립적으로 제어하는 것 외에 기판재료와 증착막 사이에 점진적인 전이를 만들어 다른 기술에 비해 내장 변형률이 낮은 막을 증착하는 데 특히 유용하다.이러한 두 가지 성질에 의해 필름이 기판에 훨씬 더 내구성 있게 결합될 수 있습니다.경험에 따르면 입방정 질화붕소(c-BN)와 같은 일부 메타안정화합물은 증착 과정 중에 강력한 이온의 충격을 받았을 때 박막 형태로만 형성될 수 있습니다.
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레퍼런스
- Kester, Daniel J.; Messier, Russell (15 July 1992). "Phase control of cubic boron nitride thin films". Journal of Applied Physics. AIP Publishing. 72 (2): 504–513. Bibcode:1992JAP....72..504K. doi:10.1063/1.351881. ISSN 0021-8979.
- 4wave Inc.의 이온 빔 증착 페이지와 일반적인 IBD 시스템 다이어그램
